電子ビーム描画装置
最終更新日：2024年4月8日
| 設備ID | TT-031 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 設備名称 | 電子ビーム描画装置 (Electron beam drawing equipment) |
| 設置機関 | 豊田工業大学 |
| 設置場所 | クリーンルーム |
| メーカー名 | クレステック (Crestec) |
| 型番 | CABL-AP50S/RD |
| キーワード | 電子線描画（EB）。解像度は描画フィールドサイズ（最小60μm、最大1000μm角）の1/20,000。 |
| 仕様・特徴 | 描画最小径10nm つなぎ精度50nm/最大1000μm□ グラデーション歪補正可能 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TT-031 |
