マスクレス露光装置 [MLA150]
最終更新日：2024年2月29日
| 設備ID | NM-660 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | マスクレス露光装置 [MLA150] (Maskless Lithography [MLA 150]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS千現地区材料信頼性実験棟102室 |
| メーカー名 | ハイデルベルグ・インスツルメンツ (HEIDELBERG INSTRUMENT) |
| 型番 | MLA 150 |
| キーワード | マスクレス、描画、リソグラフィ、レーザー、グレースケール、レジスト、光露光（マスクレス、直接描画）/ Optical exposure (maskless and direct drawing) |
| 仕様・特徴 | ・露光方式：DMD ・露光モード：スキャニング露光 ・光源 375nm半導体レーザー ・照度 7.2W/cm2 ・位置決め精度 ±1um以下 ・重ね合わせ精度 ±1um以下 ・試料サイズ 最大8インチ角 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-660 |
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