赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #1]
設備ID | NM-646 |
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分類 | 熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール |
装置名称 | 赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #1] (RTA [RTP-6 #1]) |
設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
設置場所 | NIMS並木地区 MANA棟 504号室 |
メーカー名 | アドバンス理工株式会社 (ADVANCE RIKO,Inc.) |
型番 | RTP-6 |
キーワード | 熱処理、RTA、RTP、アニール、合金化、熱処理、レーザーアニール/ Thermal treatment and laser annealing |
仕様・特徴 | ・温度範囲:室温~1000℃ ・加熱方式:赤外ゴールドイメージ炉、9ゾーン制御 ・加熱性能:最大 10℃/s ・プロセスガス:N2, Ar+H2(3%), Ar, O2, 真空置換機能あり ・試料台材質・サイズ:SiCコートグラファイト、6インチφ または Si、6インチ |