電子銃型蒸着装置 [UEP-3000BS]
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最終更新日：2024年8月29日
| 設備ID | NM-643 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
| 設備名称 | 電子銃型蒸着装置 [UEP-3000BS] (EB Evaporator [UEP-3000BS]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS並木地区 MANA棟 504号室 |
| メーカー名 | 株式会社アルバック (ULVAC, Inc.) |
| 型番 | UEP-3000BS |
| キーワード | 蒸着、薄膜、金属、リフトオフ、電子銃、EB |
| 仕様・特徴 | ・電子ビーム加速電圧：10kV ・最大エミッション：500mA ・蒸発源：材料ハース20cc×10個（回転式） ・到達真空度：10-5 Pa ・蒸着源－基板間距離：500mm～700mm ・基板サイズ：最大φ3インチ |
| 設備状況 | 共用を終了した設備です |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-643 |
![電子銃型蒸着装置 [UEP-3000BS]](data/facility_item/1687416619_11.jpg)