電子銃型蒸着装置 [MB-501010]
最終更新日：2024年2月29日
| 設備ID | NM-642 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
| 設備名称 | 電子銃型蒸着装置 [MB-501010] (EB Evaporator [MB-501010]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS並木地区 MANA棟 505号室 |
| メーカー名 | 株式会社エイコー・エンジニアリング (EIKO ENGINEERING, LTD.) |
| 型番 | MB-501010 |
| キーワード | 蒸着、薄膜、金属、リフトオフ、電子銃、EB、蒸着（抵抗加熱、電子線）/ Evaporation (resistance heating and electron beam) |
| 仕様・特徴 | ・電子ビーム加速電圧：10kV ・最大エミッション：500mA ・蒸発源：材料ハース10cc×10個 ・到達真空度：10-5 Pa ・T-S距離：700mm ・基板サイズ：最大φ6インチ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-642 |
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