マスクアライナー [MA-6]
最終更新日：2024年2月29日
| 設備ID | NM-637 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） |
| 設備名称 | マスクアライナー [MA-6] (Mask Aligner [MA-6]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS並木地区 MANA棟 502号室 |
| メーカー名 | ズース・マイクロテック株式会社 (SUSS MicroTec SE) |
| 型番 | MA-6 |
| キーワード | リソグラフィ、レーザー、レジスト、フォトマスク、光露光（マスクアライナ）/ Optical exposure (mask aligner) |
| 仕様・特徴 | ・露光方式：フォトマスク（等倍） ・光源：i線、h線、g線 ・マスク寸法：102mm角～152mm角、 ・基板寸法：76mm径以下 ・露光最小線幅：0.75μm ・位置決め精度：0.5μm(表面側) |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-637 |
![マスクアライナー [MA-6]](data/facility_item/1687416307_11.jpg)