マスクレス露光装置 [DL-1000]
最終更新日：2024年2月29日
| 設備ID | NM-636 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | マスクレス露光装置 [DL-1000] (Maskless Lithography [DL-1000]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS並木地区 MANA棟 503号室 |
| メーカー名 | 株式会社ナノシステムソリューションズ (Nano System Solutions Inc.) |
| 型番 | DL-1000 |
| キーワード | マスクレス、描画、リソグラフィ、レーザー、グレースケール、レジスト、 光露光（マスクレス、直接描画）/ Optical exposure (maskless and direct drawing) |
| 仕様・特徴 | ・露光方式：DMD ・露光モード：ステップ＆リピート描画 ・光源 405nm半導体レーザー（h線） ・照度 300mW/cm2 ・位置決め精度 ±1um以下 ・重ね合わせ精度 ±1um以下 ・試料サイズ 最大4インチ角 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-636 |
![マスクレス露光装置 [DL-1000]](data/facility_item/1687416253_11.jpg)