電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]
最終更新日：2024年2月29日
| 設備ID | NM-635 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 設備名称 | 電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100] (EB Lithography [ELS-BODEN100]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS並木地区 MANA棟 503号室 |
| メーカー名 | 株式会社エリオニクス (ELIONIX INC.) |
| 型番 | ELS-BODEN100 |
| キーワード | 電子ビーム、描画、EB、リソグラフィ、ナノ、パターニング、グレースケール、レジスト、電子線描画（EB）/ Electron beam lithography |
| 仕様・特徴 | 【遠隔利用可】 加速電圧：100kV 電流値：100pA~20nA フィールドサイズ：100, 250, 500, 1000mm（デフォルト） 最小ドットピッチ：0.2nm 最小ショットタイム：10 nsec/dot（分解能：0.1nsec） フィールドつなぎ精度：(30nm以下) 重ね合わせ精度：(35nm以下) 最大試料サイズ：～8インチΦ 対応CADフォーマット：GDSII, DXF、他 画像検出器：SE、BSE 自動／手動アライメント機能 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-635 |
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