ナノインプリントシステム
設備ID | KT-257 |
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分類 | リソグラフィ > ナノインプリント |
装置名称 | ナノインプリントシステム (Nanoimprint Lithography) |
設置機関 | 京都大学 |
設置場所 | 京都大学 桂キャンパス |
メーカー名 | Obducat社 (OBDUCAT AB) |
型番 | Eitre3 |
キーワード | 一括転写 ナノインプリント/ Nanoimprint |
仕様・特徴 | 最大3インチの基板サイズ対応の一括転写ナノインプリント装置 ・基板サイズ φ3 ・インプリント方式 STU/熱/UV、全面一括 ・最高到達温度(熱インプリント時) 250℃ |