熱インプリント装置
| 設備ID | KT-240 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > ナノインプリント |
| 装置名称 | 熱インプリント装置 (Hot Embossing System) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | イーヴィグループ (EV Group) |
| 型番 | EVG510 |
| キーワード | 熱インプリント、樹脂材料 ナノインプリント/ Nanoimprint |
| 仕様・特徴 | プラスチック基板やポリマーを塗布した半導体ウェハを加熱加圧によりエンボス加工する装置。 ・最大基板サイズ：6インチΦ（不定形対応） ・最高プロセス温度/荷重：350℃/20kN |
