UVナノインプリント装置
設備ID | KT-239 |
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分類 | リソグラフィ > ナノインプリント |
装置名称 | UVナノインプリント装置 (UV-based Nanoimprint Lithography) |
設置機関 | 京都大学 |
設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
メーカー名 | イーヴィグループ (EV Group) |
型番 | EVG6200TBN |
キーワード | UVインプリント ナノインプリント/ Nanoimprint |
仕様・特徴 | 光硬化性ポリマーやフォトレジストにナノ・マイクロレベルの構造を形成する光インプリントリソグラフィー装置。 ・LED光源:365nm、405nm、436nm ・最大基板サイズ:6インチΦ(不定形対応) ・アライメント:±3.0μm |