UVナノインプリント装置
最終更新日：2024年4月2日
| 設備ID | KT-239 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > ナノインプリント |
| 設備名称 | UVナノインプリント装置 (UV-based Nanoimprint Lithography) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | イーヴィグループ (EV Group) |
| 型番 | EVG6200TBN |
| キーワード | UVインプリント ナノインプリント/ Nanoimprint |
| 仕様・特徴 | 光硬化性ポリマーやフォトレジストにナノ・マイクロレベルの構造を形成する光インプリントリソグラフィー装置。 ・LED光源：365nm、405nm、436nm ・最大基板サイズ：6インチΦ（不定形対応） ・アライメント：±3.0μm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=KT-239 |
