原子層堆積装置
| 設備ID | KT-238 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 原子層堆積(ALD)装置 |
| 装置名称 | 原子層堆積装置 (Atomic Layer Deposition) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | サムコ(株) (Samco Inc.) |
| 型番 | AD-800LP-KN |
| キーワード | 原子層堆積、ALD |
| 仕様・特徴 | ナノレベルかつコンフォーマルの薄膜を形成するためのALD装置。ゲート酸化膜、バリア膜、透過防止膜などへの利用が可能。 ・成膜方式：サーマル/プラズマ ・基板サイズ：小片～Φ8" ・材料ガス：BDEAS(Si系)、TMA(Al系)、TDMAT(Ti系) ほか（要相談） ・反応ガス：H2O、O2、O3、N2、NH3、H2 ・キャリアガス：Ar、N2 |
