両面マスクアライナー
最終更新日：2023年6月29日
| 設備ID | KT-155 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） |
| 設備名称 | 両面マスクアライナー (Manual High Precision Double-Sided Mask Aligner) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 桂キャンパス |
| メーカー名 | ズース・マイクロテック(株) (SUSS MicroTec) |
| 型番 | MA6 BSA SPEC-KU/3 |
| キーワード | レジストパターニング 光露光 |
| 仕様・特徴 | 高性能手動両面マスクアライナ装置。 ・光源：高圧UVランプ350W（h、i線） ・基板サイズ：Φ4"、Φ6" ・露光モード：コンタクト（ソフト、ハード）、プロキシミティ ・アライメント精度 ：±0.5um＠表面、 ±0.1um＠裏面 ・厚膜レジスト対応 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=KT-155 |
