両面マスク露光&ボンドアライメント装置
| 設備ID | KT-119 |
|---|---|
| 分類 |
リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） リソグラフィ > ナノインプリント |
| 装置名称 | 両面マスク露光&ボンドアライメント装置 (Double-Sided/Infrared Mask Lithography & Bond Aligner ) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | ズース・マイクロテック(株) (SUSS MicroTec) |
| 型番 | MA/BA8 Gen3 SPEC-KU |
| キーワード | ナノインプリント アライメントとボンドアライメント機能 |
| 仕様・特徴 | 接合用アライメントとUVナノインプリント機能を兼備した複合装置。（マスクアライナー機能を兼備） ・基板サイズ：小片～Φ8" ・ウエハ厚さ：MAX 5mm ・マスクサイズ：MAX □9" ・アライメント精度：±0.25um＠表面、±1.0um＠裏面、±2.0um＠接合 |
