卓上型ランプ加熱装置
| 設備ID | HK-628 |
|---|---|
| 分類 | 熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール |
| 装置名称 | 卓上型ランプ加熱装置 (Infrared Gold Image Furnace / RTA System Mini Lamp Annealer) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 創成科学研究棟クリーンルーム |
| メーカー名 | アドバンス理工 (ADVANCE RIKO,Inc.) |
| 型番 | MILA-5000 |
| キーワード | ランプ加熱装置、アニール |
| 仕様・特徴 | 温度範囲：RT ～ 1200℃ 試料寸法：角 20mm × 厚 2mm 加熱雰囲気：大気中、真空中、不活性ガス中 到達真空度：6.5Pa（RP使用、室温無負荷） |
