赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #3]
| 設備ID | NM-634 |
|---|---|
| 分類 | 熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール |
| 装置名称 | 赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #3] (RTA [RTP-6 #3]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS千現地区 材料信頼性実験棟 |
| メーカー名 | アドバンス理工株式会社 (ADVANCE RIKO) |
| 型番 | RTP-6 |
| キーワード | 熱処理、RTA、RTP、アニール、合金化、熱処理、レーザーアニール/ Thermal treatment and laser annealing |
| 仕様・特徴 | ・用途：多目的熱処理プロセス ・加熱方式：赤外線ランプによる上部片面加熱 ・プロセス温度：1200℃以下 ・昇温速度：10℃/秒以下 ・プロセスガス：N2,O2,Ar+3%H2 ・最大試料サイズ：φ6inch ・その他：タッチパネル操作系 |
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