SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL]
最終更新日：2024年2月29日
| 設備ID | NM-633 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置 |
| 設備名称 | SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL] (SiO2 PECVD [PD-220NL]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS千現地区 材料信頼性実験棟 |
| メーカー名 | サムコ (samco) |
| 型番 | PD-220NL |
| キーワード | CVD、SiO2、TEOS、薄膜、絶縁膜、パッシベーション、化学蒸着（CVD）装置/ Chemical vapor deposition (CVD) |
| 仕様・特徴 | ・プラズマ方式：平行平板型 ・電源出力：30-300W ・原料：TEOS (SiO2) ・成膜温度：400度以下 ・最大試料サイズ：φ8inch |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-633 |
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