エリプソメータ
最終更新日：2024年4月10日
| 設備ID | GA-012 |
|---|---|
| 分類 | 膜厚・粒度測定 > エリプソメーター |
| 設備名称 | エリプソメータ (Film thickness measuring system) |
| 設置機関 | 香川大学 |
| 設置場所 | 香川大学 創造工学部 |
| メーカー名 | 溝尻光学 (Mizojiri-opt) |
| 型番 | DHA-XA/M8 |
| キーワード | 薄膜の厚みや屈折率の測定 エリプソメーター Ellipsometer |
| 仕様・特徴 | 膜厚と屈折率を測定可能 処理物：～12インチウェハ 光源波長：632.8nm（He-Neレーザー） 入射角：55°～75°，90° 入射角設定単位：0.01° 最小分解能：1Å 分布計測分解能：0.01mm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=GA-012 |
