電子線描画装置
最終更新日：2024年4月10日
| 設備ID | GA-001 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 設備名称 | 電子線描画装置 (Electron beam lithography system) |
| 設置機関 | 香川大学 |
| 設置場所 | 香川大学 創造工学部 |
| メーカー名 | エリオニクス (Elionix) |
| 型番 | ELS-7500EX |
| キーワード | ナノ領域のパタ－ン形成 電子線描画（EB） Electron beam lithography |
| 仕様・特徴 | 加速電圧：50kV、30kV、20kV 描画可能な最小線幅10nm フィールドつなぎ精度50nm 以下 描画対象：6インチまで対応可能 所要時間：線幅1μm／2インチウエハ；5～6時間 線幅10nm／2インチウエハ；4日間 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=GA-001 |
