電子線描画装置
設備ID | GA-001 |
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分類 | リソグラフィ > 電子線描画(EB) |
装置名称 | 電子線描画装置 (Electron beam lithography system) |
設置機関 | 香川大学 |
設置場所 | 香川大学 創造工学部 |
メーカー名 | エリオニクス (Elionix) |
型番 | ELS-7500EX |
キーワード | ナノ領域のパタ-ン形成 電子線描画(EB) Electron beam lithography |
仕様・特徴 | 加速電圧:50kV、30kV、20kV 描画可能な最小線幅10nm フィールドつなぎ精度50nm 以下 描画対象:6インチまで対応可能 所要時間:線幅1μm/2インチウエハ;5~6時間 線幅10nm/2インチウエハ;4日間 |