コータデベロッパ
最終更新日:2022年4月9日
設備ID | TU-062 |
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分類 |
成膜装置 > コーター(スピン、ディップ、スプレイなど) リソグラフィ > レジスト処理装置 表面処理・洗浄 > ウェット処理 |
設備名称 | コータデベロッパ (Coater developer) |
設置機関 | 東北大学 |
設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
メーカー名 | Suss (Suss) |
型番 | ACS200Gen3 |
キーワード | ベーパーHMDS処理、レジスト塗布、ベーク、現像、スピン乾燥を自動処理 |
仕様・特徴 | サンプルサイズ:2~8インチ カセットtoカセット HMDS処理、コート 3ライン、現像 2ライン、エッジリンス、バックリンス、ホットプレート 4セット、クールプレート 1セット |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-062 |