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エッチング装置(汎用)

設備ID	RO-418
分類	膜加工・エッチング > プラズマエッチング
装置名称	エッチング装置(汎用) (Dry etching system for general purpose)
設置機関	広島大学
設置場所	CR東棟１F
メーカー名	株式会社エイコー (EIKO CORPORATION)
型番	VX-20S
キーワード
仕様・特徴	対応wafer：２inch、cut wafer CF₄, O₂, N₂使用可能