エッチング装置(ICP Poly-Siゲート用)
設備ID | RO-417 |
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分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
装置名称 | エッチング装置(ICP Poly-Siゲート用) (Inductively coupled plasma etcher for poly-Si) |
設置機関 | 広島大学 |
設置場所 | CR東棟1F |
メーカー名 | 株式会社ユーテック (YOUTECUniversal Technics Co.,Ltd ) |
型番 | 12-228PH |
キーワード | |
仕様・特徴 | 2inch、cut waferは2inchに貼り付けて対応可 Cl2, O2, N2, HBr使用可能 |