エッチング装置(CDE SiN用)
最終更新日：2024年4月10日
| 設備ID | RO-415 |
|---|---|
| 分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
| 設備名称 | エッチング装置(CDE SiN用) (Chemical dry etching system for Si3N4) |
| 設置機関 | 広島大学 |
| 設置場所 | CR西棟１F |
| メーカー名 | 神戸製鋼 (Kobe Steel, Ltd.) |
| 型番 | |
| キーワード | ケミカルドライエッチング、 等方性エッチング |
| 仕様・特徴 | ２,３inch、cut wafer CF4, O2, N2使用可能 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=RO-415 |
