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エッチング装置(CDE SiN用)

設備ID	RO-415
分類	膜加工・エッチング > プラズマエッチング
装置名称	エッチング装置(CDE SiN用) (Chemical dry etching system for Si3N4)
設置機関	広島大学
設置場所	CR西棟１F
メーカー名	神戸製鋼 (Kobe Steel, Ltd.)
型番
キーワード	ケミカルドライエッチング、等方性エッチング
仕様・特徴	２,３inch、cut wafer CF₄, O₂, N₂使用可能