汎用プラズマ処理装置
最終更新日:2024年4月10日
設備ID | RO-412 |
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分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
設備名称 | 汎用プラズマ処理装置 (Reactive ion etching system for general purpose) |
設置機関 | 広島大学 |
設置場所 | CR西棟1F |
メーカー名 | 神戸製鋼 (Kobe Steel, Ltd.) |
型番 | |
キーワード | |
仕様・特徴 | 対応wafer:2inch、cut waferは2inchに貼り付けて対応可 SF6 |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=RO-412 |