真空蒸着装置
最終更新日：2024年4月10日
| 設備ID | RO-331 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
| 設備名称 | 真空蒸着装置 (Vacuum evaporation system) |
| 設置機関 | 広島大学 |
| 設置場所 | CR西棟地下 |
| メーカー名 | アルパック (ULVAC, Inc.) |
| 型番 | |
| キーワード | |
| 仕様・特徴 | 対応wafer：２inch以下 抵抗加熱型の蒸着装置。 ２種類の材料をセットして多層膜を作成することも可能。 Al、Au等。 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=RO-331 |
