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真空蒸着装置

設備ID	RO-331
分類	成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線)
装置名称	真空蒸着装置 (Vacuum evaporation system)
設置機関	広島大学
設置場所	CR西棟地下
メーカー名	アルパック (ULVAC, Inc.)
型番
キーワード
仕様・特徴	対応wafer：２inch以下抵抗加熱型の蒸着装置。２種類の材料をセットして多層膜を作成することも可能。 Al、Au等。