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多元スパッタ装置

設備ID	RO-324
分類	成膜装置 > スパッタリング（スパッタ）
装置名称	多元スパッタ装置 (Multi-target Sputtering system)
設置機関	広島大学
設置場所	CR東棟１F
メーカー名	アネルバ (Anelva)
型番
キーワード
仕様・特徴	対応wafer：２inch、cut wafer 3元スパッタ