スパッタ装置(汎用)
最終更新日：2024年4月10日
| 設備ID | RO-322 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | スパッタ装置(汎用) (Sputtering system for general purpose) |
| 設置機関 | 広島大学 |
| 設置場所 | CR東棟１F |
| メーカー名 | 株式会社エイコー (EIKO CORPORATION) |
| 型番 | |
| キーワード | |
| 仕様・特徴 | 対応wafer：２inch、cut wafer 各種材料スパッタ用 （3インチターゲット交換により広範な材料に対応） スパッタガス（Ar・O2・N2） |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=RO-322 |
