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スパッタ装置(汎用)

設備ID	RO-322
分類	成膜装置 > スパッタリング（スパッタ）
装置名称	スパッタ装置(汎用) (Sputtering system for general purpose)
設置機関	広島大学
設置場所	CR東棟１F
メーカー名	株式会社エイコー (EIKO CORPORATION)
型番
キーワード
仕様・特徴	対応wafer：２inch、cut wafer 各種材料スパッタ用（3インチターゲット交換により広範な材料に対応）スパッタガス（Ar・O₂・N₂）