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スパッタ装置（Al用）

設備ID	RO-321
分類	成膜装置 > スパッタリング（スパッタ）
装置名称	スパッタ装置（Al用） (Sputtering system for Al, Ti, and TiN deposition)
設置機関	広島大学
設置場所	CR西棟１F
メーカー名	株式会社エイコー (EIKO CORPORATION)
型番
キーワード
仕様・特徴	対応wafer：２inch、cut wafer 超高真空仕様、Al以外にTi, TiNのスパッタが可能