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リモートPECVD装置
設備ID
RO-318
分類
成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置
装置名称
リモートPECVD装置 (Remote Plasma-enhanced CVD reactor)
設置機関
広島大学
設置場所
C1棟
メーカー名
アユミ工業 (Ayumi INDUSTRY CO.,LTD.)
型番
キーワード
仕様・特徴
対応wafer:4inch以下
【技術代行専用】
SiO
2
、SiN
x
膜等の絶縁膜を成膜
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