リモートPECVD装置
最終更新日：2024年4月10日
| 設備ID | RO-318 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置 |
| 設備名称 | リモートPECVD装置 (Remote Plasma-enhanced CVD reactor) |
| 設置機関 | 広島大学 |
| 設置場所 | C1棟 |
| メーカー名 | アユミ工業 (Ayumi INDUSTRY CO.,LTD.) |
| 型番 | |
| キーワード | |
| 仕様・特徴 | 対応wafer：４inch以下 【技術代行専用】 SiO2、SiNx膜等の絶縁膜を成膜 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=RO-318 |
