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ICP - CVD装置

設備ID	RO-316
分類	成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置
装置名称	ICP - CVD装置 (ICP - CVD reactor)
設置機関	広島大学
設置場所	C1棟
メーカー名	アユミ工業 (Ayumi INDUSTRY CO.,LTD.)
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仕様・特徴	対応wafer：４inch以下【技術代行専用】アモルファスシリコン膜、アモルファスゲルマニウム膜の成膜