LPCVD装置(SiO2用)
設備ID | RO-313 |
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分類 | 成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置 |
装置名称 | LPCVD装置(SiO2用) (Low-pressure CVD reactor for SiO2 deposition) |
設置機関 | 広島大学 |
設置場所 | CR西棟1F |
メーカー名 | 東京エレクトロン (Tokyo Electron) |
型番 | |
キーワード | 減圧CVD、SiO2 |
仕様・特徴 | 対応wafer:2inch、cut wafer モノシランと一酸化窒素の混合モード、 TEOS+オゾン の2つのモード可能、 最高温度850℃ |