汎用熱処理装置
最終更新日：2024年4月10日
| 設備ID | RO-227 |
|---|---|
| 分類 | 熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール |
| 設備名称 | 汎用熱処理装置 (Annealing furnaces for general purpose) |
| 設置機関 | 広島大学 |
| 設置場所 | CR東棟１F |
| メーカー名 | 光洋サーモシステム |
| 型番 | KTF453N-VP |
| キーワード | |
| 仕様・特徴 | 対応wafer：２inch、cut wafer 各種材料窒素アニール用(400～1000℃) O2とN2又はH2のどちらか一方が使用可能 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=RO-227 |
