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汎用熱処理装置

設備ID	RO-227
分類	熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール
装置名称	汎用熱処理装置 (Annealing furnaces for general purpose)
設置機関	広島大学
設置場所	CR東棟１F
メーカー名	光洋サーモシステム
型番	KTF453N-VP
キーワード
仕様・特徴	対応wafer：２inch、cut wafer 各種材料窒素アニール用(400～1000℃) O₂とN₂又はH₂のどちらか一方が使用可能