ポストメタライゼーションアニール（PMA）炉
最終更新日：2024年4月10日
| 設備ID | RO-225 |
|---|---|
| 分類 | 熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール |
| 設備名称 | ポストメタライゼーションアニール（PMA）炉 (Post-metallization annealing furnaces) |
| 設置機関 | 広島大学 |
| 設置場所 | CR西棟１F |
| メーカー名 | 神港精機 (SHINKO SEIKI Co., LTD) |
| 型番 | |
| キーワード | 水素アニール |
| 仕様・特徴 | 対応wafer：２inch、cut wafer N2＝2slm、H2=0.5slm （400℃） 最高使用温度900℃ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=RO-225 |
