イオン注入装置
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最終更新日：2024年8月29日
| 設備ID | RO-211 |
|---|---|
| 分類 | > |
| 設備名称 | イオン注入装置 (Ion implanter) |
| 設置機関 | 広島大学 |
| 設置場所 | CR西棟１F |
| メーカー名 | アルバック (ULVAC, Inc.) |
| 型番 | IM-200M |
| キーワード | 対応wafer：２inch、cut wafer |
| 仕様・特徴 | 5keV-150keV, B, As, P, Si, F, Ar, In, Sb, N, He 等注入可能 |
| 設備状況 | 共用を終了した設備です |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=RO-211 |
