マスクレス露光装置
設備ID | RO-113 |
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分類 | リソグラフィ > 光露光(マスクレス、直接描画) |
装置名称 | マスクレス露光装置 (Maskless photolithography system) |
設置機関 | 広島大学 |
設置場所 | CR東棟1F |
メーカー名 | ハイデルベルグ・インストルメンツ (Heidelberg Instruments) |
型番 | MLA150 |
キーワード | |
仕様・特徴 | 対応wafer:2~6inch、cut wafer他 DMDを用いたレーザー露光装置 レーザ光源:375nm 7.2W 最小画素:1μm |