レーザ描画装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | TU-057 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | レーザ描画装置 (Laser writer) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
| メーカー名 | Heidelberg Instruments (Heidelberg Instruments) |
| 型番 | DWL2000CE |
| キーワード | マスク作製（Cr、エマルジョン）、直接描画、グレイスケール露光 |
| 仕様・特徴 | サンプルサイズ：小片～9インチ 波長：405nm 最小描画線幅：0.7µm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-057 |
