多機能走査型X線光電子分光分析装置
最終更新日：2024年4月9日
| 設備ID | NR-401 |
|---|---|
| 分類 | 状態分析（各種分光法（元素分析・振動モード・電子状態）を含む） > X線光電子分光 （XPS（硬X線を含む）） |
| 設備名称 | 多機能走査型X線光電子分光分析装置 (multi-functional scanning X-ray photoelectron spsctroscopy (XPS)) |
| 設置機関 | 奈良先端科学技術大学院大学 (NAIST) |
| 設置場所 | 奈良先端科学技術大学院大学物質棟 |
| メーカー名 | アルバックーファイ (ULVAC-PHI) |
| 型番 | PHI5000VersaProbeⅡ |
| キーワード | シリコン基材料・デバイス/ Silicon-based materials and devices 薄膜/ Thin films 化合物半導体/ Compound semiconductor 各種表面処理等/ Various surface treatments 組成分析、定量分析、化学状態分析、表面、薄膜 |
| 仕様・特徴 | ・X線源：単色化Al Kα線（集束X線型、スポット径100μm-9μm）、Mg Kα線、Zr L線 ・エネルギー分析器：同心半球型（半径 139.7 mm） ・検出器：16 チャンネル ・絶縁物測定：帯電中和用電子銃、Ar+イオン銃 ・スパッタ深さ分析：Ar+イオン銃、GCIB（Arn+ Gas Cluster Ion Beam） ・5軸ステージ：X, Y, Z, Tilt, Rotation ・試料加熱冷却：-150℃-500℃ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NR-401 |
