【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.03.30】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23KT0056
利用課題名 / Title
両親媒性液晶ブロック共重合体のミクロ相分離構造の機能化
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials
キーワード / Keywords
ミクロ相分離構造,高分子薄膜,超薄切片,電子顕微鏡/ Electronic microscope,メソポーラス材料/ Mesoporous material
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
浅岡 定幸
所属名 / Affiliation
京都工芸繊維大学 材料化学系
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
根本 隆
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
完全垂直配向シリンダー型のミクロ相分離構造を与える両親媒性液晶ブロック共重合体の精密分子設計により、光・電気化学的機能や精密ナノ分離・精製機能、触媒能を付与し、新奇機能性ナノ材料の創製を目指す。
実験 / Experimental
ラビング処理を施したカプトン基板上に両親媒性液晶ブロック共重合体薄膜を成膜したものを、常温硬化型エポキシ樹脂に包埋し、常温下でウルトラミクロトームを用いて、ラビング方向に対して平行あるいは直交方向に切断し、それぞれ超薄切片を作製した。
結果と考察 / Results and Discussion
超薄切片の作成には成功したものの、ラビング方向に対して平行、直交方向いずれの方向に切断した場合にもカプトン基板からの剥離が認められ、常温での試料作製が困難であることが判った。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件