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シリコン専用の各種熱処理(酸化、拡散)装置一式

設備ID TT-009
分類 熱処理・ドーピング > 酸化
装置名称 シリコン専用の各種熱処理(酸化、拡散)装置一式 (Thermal treatment furnaces (oxidation, diffusion))
設置機関 豊田工業大学
設置場所 クリーンルーム
メーカー名 縦型:ディー・エス・アイ テクノロジー 横型:光洋サーモシステム (縦型:DSITechnology Co.LTD 横型:Koyo Thermo Systems Co., Ltd.)
型番 縦型:MD-100P 横型:4001PSI
キーワード シリコンウェハの酸化および不純物拡散に利用。Deep RIEで入る壁面凹凸のスキャロップを除去することにも利用。
仕様・特徴 横型および縦型酸化・拡散炉一式
・シリコンウェハの酸化および不純物拡散(リンおよびボロン)
・φ3インチまでのシリコン基板
    シリコン専用の各種熱処理(酸化、拡散)装置一式
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