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電子ビーム描画装置

設備ID TT-004
分類 リソグラフィ > 電子線描画(EB)
装置名称 電子ビーム描画装置 (Electron beam drawing equipment)
設置機関 豊田工業大学
設置場所 クリーンルーム
メーカー名 クレステック (Crestec)
型番 CABL-8200TFE
キーワード 最大500μm角領域に400nmサイズの〇や△を描画
仕様・特徴 Siやガラスなどの各種基板に描画実績あり。
ガラスに対しては帯電対策が必要。
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