電子ビーム描画装置
設備ID | TT-004 |
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分類 | リソグラフィ > 電子線描画(EB) |
装置名称 | 電子ビーム描画装置 (Electron beam drawing equipment) |
設置機関 | 豊田工業大学 |
設置場所 | クリーンルーム |
メーカー名 | クレステック (Crestec) |
型番 | CABL-8200TFE |
キーワード | 最大500μm角領域に400nmサイズの〇や△を描画 |
仕様・特徴 | Siやガラスなどの各種基板に描画実績あり。 ガラスに対しては帯電対策が必要。 |