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顕微分光膜厚計 [F54-XY-200-UV]

設備ID NM-624
分類 膜厚・粒度測定 > 膜厚測定
装置名称 顕微分光膜厚計 [F54-XY-200-UV] (Optical Film Mapper [F54-XY-200-UV])
設置機関 物質・材料研究機構 (NIMS)
設置場所 NIMS千現地区 材料信頼性実験棟
メーカー名 フィルメトリクス株式会社 (FILMETRICS)
型番 F54-XY-200-UV
キーワード 反射分光、膜厚測定、屈折率、薄膜、厚膜、顕微、マッピング、分布、膜厚測定/ Film thickness measurement
仕様・特徴 ・用途:反射分光膜厚測定
・光源:重水素ハロゲンランプ
・波長:190-1100nm
・スポット径:10 μm以下
・測定膜厚範囲:5nm以下~30μm
・最大試料サイズ:φ8inch
・その他:自動マッピング、顕微式
    顕微分光膜厚計 [F54-XY-200-UV]
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