顕微分光膜厚計 [F54-XY-200-UV]
最終更新日:2024年2月29日
設備ID | NM-624 |
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分類 | 膜厚・粒度測定 > 膜厚測定 |
設備名称 | 顕微分光膜厚計 [F54-XY-200-UV] (Optical Film Mapper [F54-XY-200-UV]) |
設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
設置場所 | NIMS千現地区 材料信頼性実験棟 |
メーカー名 | フィルメトリクス株式会社 (FILMETRICS) |
型番 | F54-XY-200-UV |
キーワード | 反射分光、膜厚測定、屈折率、薄膜、厚膜、顕微、マッピング、分布、膜厚測定/ Film thickness measurement |
仕様・特徴 | ・用途:反射分光膜厚測定 ・光源:重水素ハロゲンランプ ・波長:190-1100nm ・スポット径:10 μm以下 ・測定膜厚範囲:5nm以下~30μm ・最大試料サイズ:φ8inch ・その他:自動マッピング、顕微式 |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-624 |