有機金属気相成長装置
設備ID | IT-010 |
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分類 | 成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置 |
装置名称 | 有機金属気相成長装置 (Metal organic vapor phase epitaxy) |
設置機関 | 東京工業大学 |
設置場所 | 東工大大岡山キャンパス |
メーカー名 | 日本酸素 ( Nippon Sanso) |
型番 | HR-3246 |
キーワード | InP系化合物半導体 |
仕様・特徴 | InP用 ・ウェハトレイ:石英製2インチウェハトレイ ・III族材料:TEG,TMG,TMA,TMI,CBr4 ・V族材料:AsH3(100%),AsH3(1%),PH3(100%),Si2H6,C2H6Zn |