共用設備検索

電子ビーム露光データ加工ソフトウェア

設備ID IT-002
分類 リソグラフィ > その他
装置名称 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア (Electron beam exposure )
設置機関 東京工業大学
設置場所 東工大大岡山キャンパス
メーカー名 GenISys (GenISys)
型番 Beamer
キーワード 微細構造形成支援
仕様・特徴 JEOL01,51,52などの日本電子製電子ビーム露光用パターンデータファイルが入出力可能。
各露光基板形状に基づいたモンテカルロシミュレーションによって点拡がり関数(PSF)を導出でき、得られたPSFに基づく近接効果補正が可能。
    電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
    電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
スマートフォン用ページで見る