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分光エリプソメータ

設備ID BA-019
分類 膜厚・粒度測定 > エリプソメーター
装置名称 分光エリプソメータ (Ellipsometer)
設置機関 筑波大学
設置場所 総合研究棟B
メーカー名 堀場製作所 (Horiba)
型番 UVISEL Plus
キーワード 単層膜や多層膜の膜厚、組成などの算出を行う
紫外、赤外、ワイドギャップ半導体、絶縁体
仕様・特徴 PEMを利用した位相変調方式により、外光の影響を受けにくい分光エリプソメーター

測定波長:190~2100 nm(波長分解能力:2 nm)
スポットサイズ:0.05, 0.1, 1mmφ(垂直入射時)を選択
    分光エリプソメータ
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