分光エリプソメータ
設備ID | BA-019 |
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分類 | 膜厚・粒度測定 > エリプソメーター |
装置名称 | 分光エリプソメータ (Ellipsometer) |
設置機関 | 筑波大学 |
設置場所 | 総合研究棟B |
メーカー名 | 堀場製作所 (Horiba) |
型番 | UVISEL Plus |
キーワード | 単層膜や多層膜の膜厚、組成などの算出を行う 紫外、赤外、ワイドギャップ半導体、絶縁体 |
仕様・特徴 | PEMを利用した位相変調方式により、外光の影響を受けにくい分光エリプソメーター 測定波長:190~2100 nm(波長分解能力:2 nm) スポットサイズ:0.05, 0.1, 1mmφ(垂直入射時)を選択 |