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電子線描画装置

    電子線描画装置
    電子線描画装置
機器ID BA-005
分類 リソグラフィ > 電子線描画(EB)
装置名称 電子線描画装置 (Electron Beam Lithography)
設置機関 筑波大学
設置場所 共同研究棟C
メーカー名 ELIONIX (ELIONIX)
型番 ELS-7500EX
キーワード 電子線描画装置
仕様・特徴 電子銃エミッター:ZrO/W熱電界放射型
加速電圧:5~50 kV
最小線幅:10 nm
試料サイズ:最大4インチ
ステージ移動範囲: X:100 mm以上 Y:110 mm以上
重ねあわせ精度:40 nm
フィールド継ぎ精度:40 nm
機関代表メールアドレス staff=u-tsukuba-arim.jp ([=]を[@]にしてください)
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