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3次元レーザ・リソグラフィシステム群

    3次元レーザ・リソグラフィシステム群
    3次元レーザ・リソグラフィシステム群
機器ID NU-246
分類 リソグラフィ > 光露光(マスクレス、直接描画)
表面処理・洗浄 > CO2洗浄
装置名称 3次元レーザ・リソグラフィシステム群 (3 dimentional laser lithography system)
設置機関 名古屋大学
設置場所 IB電子情報館西棟5階
メーカー名 Nanoscribe KISCO (Nanoscribe KISCO)
型番 Photonic Professional SCLEAD3CD2000
キーワード fsレーザ露光
3次元造形
超臨界乾燥
仕様・特徴 Nanoscribe Photonic Professional
・2次元加工精度:100 nm
・3次元加工精度:150 nm
・対応データ:DXF, STL
KISCO SCLEAD3CD2000
・設計温度:100 ℃
・設計圧力:20 MPa
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