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レーザ描画装置

    レーザ描画装置
    レーザ描画装置
機器ID NU-244
分類 リソグラフィ > 光露光(マスクレス、直接描画)
装置名称 レーザ描画装置 (Laser lithography)
設置機関 名古屋大学
設置場所 IB電子情報館西棟5階
メーカー名 Heidelberg Instruments (Heidelberg Instruments)
型番 mPG101-UV
キーワード レーザ描画
グレースケール露光
仕様・特徴 ・対応基板:100 mm ×100 mm
・加工精度:3 µm
・最小アドレスグリッド:100 nm
・対応データ:DXF,CIF,BMP
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