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ICPエッチング装置

    ICPエッチング装置
    ICPエッチング装置
機器ID NU-225
分類 膜加工・エッチング > プラズマエッチング
装置名称 ICPエッチング装置 (ICP etching)
設置機関 名古屋大学
設置場所 ベンチャービジネスラボラトリ
メーカー名 アルバック (ULVAC)
型番 CE-300I
キーワード 塩素エッチング
仕様・特徴 ・化合物エッチング
・対応基板サイズ:最大6インチ基板
・プロセスガス:Cl2
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