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プラズマCVD装置

    プラズマCVD装置
    プラズマCVD装置
機器ID NU-221
分類 成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置
装置名称 プラズマCVD装置 (Plasma CVD)
設置機関 名古屋大学
設置場所 先端技術共同研究施設
メーカー名 サムコ (Samco)
型番 PD-240
キーワード プラズマCVD
SiO2成膜
仕様・特徴 ・基板加熱:抵抗加熱式 (~400℃)
・適正ウェハ寸法:不定形~3インチ径
・供給ガス:TEOS, O2
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