リアクティブイオンエッチング装置
設備ID | NU-217 |
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分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
装置名称 | リアクティブイオンエッチング装置 (Reactive ion etching) |
設置機関 | 名古屋大学 |
設置場所 | 先端技術共同研究施設 |
メーカー名 | サムコ (Samco) |
型番 | RIE-10N |
キーワード | 反応性イオンエッチング SiO2エッチング |
仕様・特徴 | ・CF4,SF6,O2使用可能 ・電極径:210 mmΦ ・最大RF電力::300W |